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静电卡盘具有高真空兼容性，使其能够在高真空环境中稳定运行。在半导体制造和光学加工中，许多工艺需要在高真空环境中进行，以减少气体分子对加工过程的干扰。静电卡盘能够在高真空条件下保持稳定的吸附力，确保工件的牢固固定。这种高真空兼容性是
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静电卡盘凭借其稳定的吸附性能和对晶圆的无损伤特性，普遍应用于半导体制造中的光刻、蚀刻、离子注入、薄膜沉积等多道关键工序。在蚀刻工序中，晶圆需暴露在等离子体环境下，静电卡盘不*能固定晶圆，还能通过背面氦气冷却技术控制晶圆温度，避免高
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